中微公司估计，在未来的五到十年，将经过自主研制以及携手职业合作伙伴，掩盖集成电路要害范畴50%至60%的设备。

  9月21日，国产半导体设备厂商中微公司发布了重要的公告称，公司董事会于近来收到倪图强、杨伟提交的书面辞职报告。倪图强因个人原因，请求辞去公司副总经理、中心技能人员职务。杨伟因个人原因，请求辞去公司中心技能人员职务。

  公告显现，倪图强，1962年生，美国国籍，中国科学技能大学学士、硕士，美国德州大学博士、博士后。2004年8月参加中微公司，现任中微公司副总经理、中心技能人员。到本公告发表日，倪图强直接持股764,358股，所持股份算计占公司总股本0.123%。

  杨伟，1966年生，美国国籍，西安交通大学学士、硕士。2004年8月参加中微公司，现任中微公司中心技能人员。到本公告发表日，杨伟直接持股454,017股，所持股份算计占公司总股本0.073%。

  中微公司表明，公司经过长时间技能堆集和开展，已建立了完好的研制系统，培养了有斗争精力和协同创造新式事物的才能的开发团队。本次中心技能人员的变化不存在触及职务创造等胶葛，不会对公司的技能优势和中心竞争力发生严重晦气影响，亦不影响产品研制和商场拓宽进展。

  据财报显现，中微公司2024年上半年，公司经营收入为34.48亿元，同比增加36.46%；归属于上市公司股东的纯利润是5.17亿元，同比下降48.48%。到 2024 年 6 月底，公司共有研制人员 967 名，占公 司总人数份额为 46.38%。

  揭露材料显现，中微半导体设备(上海)股份有限公司的主经营务是高端半导体设备及泛半导体设备的研制、出产和出售。从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户，到2024年，中微公司累计已有超5000个反响台在国内外130多条出产线完成量产和大规模重复性出售。

  公司的根本的产品有电容性等离子体刻蚀设备，电理性等离子体刻蚀设备，MOCVD设备，VOC设备。凭仗职业创始的刻蚀设备双台机技能，中微公司首先提出“皮米级”加工精度概念，其刻蚀精度已达到100“皮米”以下水平，且产品具有刻蚀使用掩盖丰厚等优势，可满意90%以上的刻蚀使用需求，技能才能已掩盖5纳米及以下更领先水平。MOCVD设备方面，中微公司已在氮化镓及LED设备商场，取得具有优势的占有率。在半导体薄膜堆积设备范畴，中微公司推出了Preforma Uniflex CW等新产品，取得客户重复性订单并完成事务多元化开展。

  值得重视的是，中微公司估计，在未来的五到十年，将经过自主研制以及携手职业合作伙伴，掩盖集成电路要害范畴50%至60%的设备。